因为硅微粉的物理特性,在光学薄膜设计中的应用特点。对电子束沉积硅薄膜时的温度、真空度进行确定,并对其沉积速率的稳定性以及石墨坩埚的使用方法进行研究。利用分光光度法测定了硅膜在0.5 μm~5 μm 波段范围内的折射率分布曲线。再针对光学薄膜的设计,可以根据使用要求有目的地改变光谱的传输特性。光学薄膜的膜系设计主要包括膜层折射率和膜层厚度两个方面,其中膜层折射率的设计实际上就是对薄膜材料的选取,是膜系设计的前提。薄膜材料要求有比较稳定的折射率,还要满足光谱透明度、机械牢固度和化学稳定性以及抗高能辐射等对薄膜材料的基本要求。这就使得光学薄膜材料种类,尤其是能够适用于红外波段的薄膜材料种类非常有限。由于硅微分具熔点高、热传导性能好、硬度高、化学稳定性强等特性,因而是一种非常重要的半导体材料,其优越的理化特性和光学特性使得硅微粉在光学薄膜的红外波段的应用前景非常广阔。
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