硅微粉在红外光学的价值

文章来源：https://www.hayond.cn 发布时间：2022-04-26 浏览次数：40

硅微粉在光学薄膜的价值与折射率是与工艺条件密切相关的，因此要针对特定的工艺条件来测定折射率分布状况。例如在185℃、3×10-3 Pa、沉积速率为0.2 nm/s的条件下，通过单层膜试验，可以利用分光光度法测定Si 在0.5 μm~5 μm 波段范围内的折射率。硅微粉制成的硅膜在红外光学薄膜中具有很高的应用价值，尤其是能够简化反射膜以及光谱特性要求复杂的膜系，减少膜层数目和膜层厚度，拓展反射带。电子束沉积是目前光学薄膜制备过程中的主流方式，在力求与其他膜料的工艺匹配的原则上，文中确定了电子束沉积Si 膜时的温度、真空度，利用石墨坩埚获得了稳定的沉积速率，在此基础上利用分光光度法测定了Si 在0.5 μm~5 μm 波段范围内的折射率分布曲线，对硅微粉在红外薄膜中的应用具有一定的借鉴意义。